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后ArF时代的光刻征途
Cost matters。用中国话说就是“成本猛于虎”。 半导体业人士最大的梦想莫过于以最小的成本投入换取最大的回报。因此，按比例缩小、在单片晶圆上制造出更多的芯片是创新最强大的驱动力，它影响着成千上万的工程师
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随笔：EUV光刻技术与协和式超音速客机的奇妙类比
与我们熟悉的摩尔定律类似，如果采样对比的时间长度足够短，那么几乎任何科技发展的速度都会呈现出一种对数级的线性增长。有些业内人士总是喜欢将其所在业界的发展历史趋势总结为与摩尔定律类似的形式，希望业界的未
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MIT实现9纳米工艺电子束光刻技术
麻省理工学院 (MIT)的研究人员表示，已经开发出一种技术，可望提升在芯片上写入图案的高速电子束光刻解析度，甚至可达9nm，远小于原先所预期的尺寸。MIT表示，电子束光刻工具的最小特征尺寸已证实可以解决25nm的制程
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麻理将电子束光刻可刻制最小图像尺寸降至9nm
麻省理工学院的研究人员表示，他们已经研制出了一种可以刻制尺寸为9nm图像的电子束光刻技术，而此前电子束光刻技术所能刻制的图像尺寸极限则为25nm左右.有关这次研究的详细内容将发表在下一期的《微电子工程》（ Mic
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后ArF时代的光刻征途
Cost matters。用中国话说就是“成本猛于虎”。 半导体业人士最大的梦想莫过于以最小的成本投入换取最大的回报。因此，按比例缩小、在单片晶圆上制造出更多的芯片是创新最强大的驱动力，它影响着成千上万的工程师
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光源问题仍是EUV光刻技术中的难题
GlobalFoundries公司的光刻技术专家Obert Wood在最近召开的高级半导体制造技术会议ASMC2011上表示，尽管业界在改善EUV光刻机用光源技术方面取得了一定成效，但光源问题仍是EUV光 刻技术成熟过程中最“忐忑”的因素。
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GlobalFoundries光刻专家谈EUV最新进展
GlobalFoundries公司的光刻技术专家Obert Wood在最近召开的高级半导体制造技术会议ASMC2011上表示，尽管业界在改善EUV光刻机用光源技术方面取得了一定成效，但光源问题仍是EUV光刻技术成熟过程中最“忐忑”的因素。O
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光刻技术：193nm波长光源光刻技术的延寿术与缓兵之计
半导体工业目前的普遍做法是使用的是波长接近200nm的光源来刻制30nm尺寸级别的芯片图像。如果按照常规的光学理论，由于所谓衍射极限的存 在，200nm光源光刻技术的理论分辨率极限应在400nm左右。 然而，实际上人们
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Intel:极远紫外光刻恐将错过10nm工艺
Intel近日亲口承认，备受关注的极远紫外光刻(EUV)技术可能又要推迟了，要赶不上10nm工艺这一里程碑步骤希望渺茫。 Intel目前的计划是在14nm工艺上扩展193nm沉浸式光刻技术，预计2013年下半年实现，然后2015年下半
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EUV掩膜版清洗技术遭遇资金危机
本周在奥斯汀由美国半导体制造技术战略联盟(Sematech)牵头举办的表面制备与清洁技术大会(SPCC:Surface Preparation and Cleaning Conference)上,与会者纷纷表示EUV光刻技术的发展对EUV有关的量测技术以及掩膜清洁技术
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光刻世界的期待与沮丧
数十年来，光刻一直是关键的芯片生产技术。今天它仍然很重要。不过，在最近的SPIE先进光刻技术大会中，一些迹象显示，光刻界及其客户需要的微缩──字面上的微缩──事实上几乎已经有点像心理安慰了。 焦虑、紧张
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谁才是IC大佬们的光刻技术最爱？
台积电与Globalfoundries是一对芯片代工行业的死对头，不过他们对付彼此的战略手段则各有不同。举例而言，在提供的产品方面，Globalfoundries在28nm制程仅提供HKMG工艺的代工服务(至少从对外公布的路线图上看是这样)
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芯片制造三巨头的次世代光刻技术战略
台积电与Globalfoundries是一对芯片代工行业的死对头，不过他们对付彼此的战略手段则各有不同。举例而言，在提供的产品方面，Globalfoundries在28nm制程仅提供HKMG工艺的代工服务（至少从对外公布的路线图上看是这样
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Intel：极远紫外光刻恐将错过10nm工艺
Intel近日亲口承认，备受关注的极远紫外光刻(EUV)技术可能又要推迟了，要赶不上10nm工艺这一里程碑步骤希望渺茫。 Intel目前的计划是在14nm工艺上扩展193nm沉浸式光刻技术，预计2013年下半年实现，然后2015年下半年
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芯片制造三巨头的次世代光刻技术战略对比分析
台积电与Globalfoundries是一对芯片代工行业的死对头，不过他们对付彼此的战略手段则各有不同。举例而言，在提供的产品方面，Globalfoundries在28nm制程仅提供HKMG工艺的代工服务（至少从对外公布的路线图上看是这样
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芯片制造三巨头的次世代光刻技术战略对比分析
台积电与Globalfoundries是一对芯片代工行业的死对头，不过他们对付彼此的战略手段则各有不同。举例而言，在提供的产品方面，Globalfoundries在28nm制程仅提供HKMG工艺的代工服务（至少从对外公布的路线图上看是这样
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芯片制造三巨头的次世代光刻技术战略异同分析
台积电与Globalfoundries是一对芯片代工行业的死对头，不过他们对付彼此的战略手段则各有不同。举例而言，在提供的产品方 面，Globalfoundries在28nm制程仅提供HKMG工艺的代工服务（至少从对外公布的路线图上看是这样
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芯片制造三巨头的次世代光刻技术战略对比分析
台积电与Globalfoundries是一对芯片代工行业的死对头，不过他们对付彼此的战略手段则各有不同。举例而言，在提供的产品方 面，Globalfoundries在28nm制程仅提供HKMG工艺的代工服务（至少从对外公布的路线图上看是这样
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Intel：EUV技术的发展可能赶不上我们部署10nm制程技术的脚步
在最近召开的SPIE高级光刻技术会议上，记者了解到了更多有关Intel与EUV光刻技术方面的新动向，据了解，Intel将EUV光刻技术应用到大批 量生产的时间点将会迟于Intel推出14nm制程产品的时间点，而且按现在的发展趋势来
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Intel：EUV技术的发展可能赶不上我们部署10nm制程技术的脚步
在最近召开的SPIE高级光刻技术会议上，记者了解到了更多有关Intel与EUV光刻技术方面的新动向，据了解，Intel将EUV光刻技术应用到大批量生产的时间点将会迟于Intel推出14nm制程产品的时间点，而且按现在的发展趋势来看
