曜智光科(Rationalite Photonics)首席科学家暨 MIT 团队在微纳制造与光芯片领域取得颠覆性突破,相关研究成果于2026年5月12日正式发表在国际顶尖学术期刊《Nature Photonics》(自然·光子学上。该研究展示了一种名为“内爆雕刻”(ImpCarv)的全新制造方法。该技术成功突破了传统光学制造的衍射极限,为构建具有纳米级精度、高自由度的复杂三维(3D)超结构以及提供了一种可扩展且极具成本效益的解决方案。
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